一、等離子設(shè)備日常維護(hù)
（一） 等離子發(fā)生器的維護(hù)
定期清理等離子發(fā)生器內(nèi)部的外殼及排氣口灰塵。建議至少每月檢查一次；
定期更換等離子源體；
定期檢查掌握等離子發(fā)生器的加工系統(tǒng)參數(shù)，確保其正常工作；
注意等離子源的調(diào)整，增大等離子體流量，經(jīng)常清洗導(dǎo)體；
（二）易損件維護(hù)
定期檢查并更換設(shè)備中的易損件，如膜片、密封圈、電極等，防止其損壞影響設(shè)備正常工作；
每半年對快門桿和氣壓控制進(jìn)行檢查和校準(zhǔn)，避免出現(xiàn)誤差。
（三）其他維護(hù)注意事項(xiàng)
定期更換老化、損壞的電纜線；
定期校準(zhǔn)空氣壓力表和溫度計(jì)等，確保其精確度；
加油、更換機(jī)器油。
二、等離子設(shè)備故障排除
如果出現(xiàn)故障，需要先確定故障原因才能進(jìn)行修理。以下是常見故障排除方法：
（一）等離子體丟失或流量減少
檢查配合的真空泵是否正常開啟，系統(tǒng)管道是否漏氣。
檢查減壓閥門是否被堵塞；
檢查氧流量計(jì)、氣體流量計(jì)、陶瓷燃燒嘴等部件是否有損傷。
（二）設(shè)備火花分析效果差
先檢查離子發(fā)生器內(nèi)部是否有雜質(zhì)；
調(diào)整電極間距，確認(rèn)裝置無松動(dòng)現(xiàn)象；
更換發(fā)光信號紙片窯。大氣等離子處理機(jī)提供各種修改表面的方法
一、處理機(jī)對象經(jīng)等離子處理機(jī)之后是干燥的，可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率；
二、等離子處理機(jī)使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等離子處理機(jī)，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)。
六、等離子處理機(jī)需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;
七、使用等離子處理機(jī)，避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;
八、等離子處理機(jī)可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;
九、在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。等離子處理設(shè)備是一種高技術(shù)的設(shè)備，能夠在微觀尺度上進(jìn)行清洗和表面改性。其原理是借助于等離子體反應(yīng)生成活性氣體，并使這些氣體與待處理物表面發(fā)生碰撞作用，從而實(shí)現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。以下將詳細(xì)介紹等離子處理設(shè)備的原理。
一、等離子狀態(tài)
等離子狀態(tài)是常見物質(zhì)狀態(tài)之一，類似于固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以及波動(dòng)態(tài)。等離子體是由氣體或者液體中的分子或原子組成的高溫、高能帶電粒子集合體，其特點(diǎn)之一是其具有自激勵(lì)性質(zhì)，即在一定情況下，它們能夠釋放出足夠的能量來促使更多原子或分子進(jìn)入等離子態(tài)。
二、等離子處理設(shè)備的基本原理
等離子處理設(shè)備利用等離子變化能夠產(chǎn)生的大量質(zhì)子、氧離子、氮離子、硅離子等帶異性質(zhì)的粒子，并加速這些粒子，將它們引導(dǎo)到待處理物表面，這些粒子與物體表面的原子或者分子碰撞后，會(huì)釋放出巨大的能量，這個(gè)過程稱為離子表面交互反應(yīng)過程。這些反應(yīng)產(chǎn)生的碰撞粒子的能量所激發(fā)物體表面分子的原子層具有不同的效應(yīng)，如化學(xué)反應(yīng)、物理反應(yīng)和結(jié)構(gòu)變化等。
三、等離子處理設(shè)備的操作過程
等離子處理設(shè)備由等離子發(fā)生器、等離子噴霧裝置、真空泵系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。其工作流程包括以下幾個(gè)步驟：
1.真空抽除：將待處理物置于等離子處理室中，開啟泵系統(tǒng)，將氣體排出，形成真空環(huán)境。
2.等離子振蕩：通過高頻電源產(chǎn)生感應(yīng)電場，將氣體激勵(lì)起來，從而產(chǎn)生等離子體。
3.等離子擴(kuò)散：等離子體向外擴(kuò)散，與待處理物接觸并發(fā)生離子表面交互反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)對物體的清洗和改性。
4.進(jìn)料：對待處理的物體進(jìn)行進(jìn)料，并使其暴露在等離子體前緣處。
5.等離子處理：對待處理的物體進(jìn)行等離子表面交互反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)清洗和改性的目的。
6.結(jié)束處理：當(dāng)處理完成后，要將氣體排出，并關(guān)閉設(shè)備。
四、等離子處理設(shè)備的應(yīng)用
等離子處理設(shè)備已廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域。在電子行業(yè)中，它被用于微電子制造和集成電路清洗；在醫(yī)療行業(yè)中，它被用于殺菌和消毒；在化學(xué)工藝中，它被用于表面噴涂和材料改性；在環(huán)保治理中，它被用于廢水處理和氣態(tài)污染物處理。其利用等離子技術(shù)，既能達(dá)到有效、環(huán)保的處理效果，又不會(huì)對待處理物體造成損傷，成為一種非常有前途的清洗和改性的方法。
綜上所述，等離子處理設(shè)備通過產(chǎn)生等離子體反應(yīng)生成活性氣體，實(shí)現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。該技術(shù)已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，在電子、醫(yī)療、化學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域都有著重要的作用。
